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    • 晶圓加熱裝置

      晶圓加熱盤,晶圓加熱裝置在半導體制程過程中非常重要,特別是在一些關鍵工藝中,如晶圓退火、鍵合、勻膠、刻蝕、氣相沉積等,它可以提供穩定的溫場環境及精密的盤面均勻溫度,確保晶圓在各種溫區中的加熱要求,從而實現半導體器件的制造和研發。

      更新日期:2024-09-24
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