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    晶圓加熱裝置
    簡要描述:

    晶圓加熱盤,晶圓加熱裝置在半導體制程過程中非常重要,特別是在一些關鍵工藝中,如晶圓退火、鍵合、勻膠、刻蝕、氣相沉積等,它可以提供穩定的溫場環境及精密的盤面均勻溫度,確保晶圓在各種溫區中的加熱要求,從而實現半導體器件的制造和研發。

    • 參考價格:
    • 廠商性質:生產廠家
    • 更新時間:2024-09-24
    • 訪  問  量:4069

    詳細介紹

    果果儀器 晶圓加熱裝置在半導體制程過程中非常重要,特別是在一些關鍵工藝中,如晶圓退火、鍵合、勻膠、刻蝕、氣相沉積等,它可以提供穩定的溫場環境及精密的盤面均勻溫度,確保晶圓在各種溫區中的加熱要求,從而實現半導體器件的制造和研發。

     



     

    產品特點:


    • 快速升溫

    • 溫度均勻

    • 控溫穩定

    • 多溫區可調

     


    適用領域:半導體、芯片、晶圓等



     

    8英寸不銹鋼晶圓鍵合加熱模塊:



    晶圓加熱裝置

     

    8英寸鋁合金加熱盤:

    晶圓加熱盤,RT~400℃,溫度均勻性≤±4℃,盤面平整度≤0.02mm


     

     

    8英寸不銹鋼加熱盤:

    RT~550℃,真空時使用



    ↑ 仿真模擬 ↑


    晶圓加熱裝置



    ↑ 平面度檢測及溫控曲線 ↑



     

     

     

     

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